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| 品牌 | 冠亞恒溫 | 冷卻方式 | 水冷式 |
|---|---|---|---|
| 價格區(qū)間 | 10萬-50萬 | 產地類別 | 國產 |
| 儀器種類 | 一體式 | 應用領域 | 化工,電子/電池,航空航天,汽車及零部件,電氣 |
系統級封裝測試循環(huán)機 直冷機Chiller
系統級封裝測試循環(huán)機 直冷機Chiller
光刻工藝溫度控制chiller通過提供準確和穩(wěn)定的溫度控制，Chiller有助于提高光刻過程的質量和效率，確保半導體制造過程中的高性能和可靠性。
案例三：光刻過程中冷卻水的溫度控制
應用描述：在某些高精度光刻過程中，需要使用冷卻水來維持光刻機部件的恒定溫度，以確保曝光過程中的穩(wěn)定性。
解決方案：使用Chiller為光刻機提供恒定溫度的冷卻水，以維持曝光頭和其他關鍵部件的工作溫度。
效果：光刻工藝溫度控制chiller通過準確控制冷卻水的溫度，減少了因溫度波動引起的曝光誤差，提高了光刻圖案的精度和一致性。
案例四：提高生產效率和良率
應用描述：在大規(guī)模生產中，保持光刻過程的穩(wěn)定性對于提高生產效率和良率影響比較大。
解決方案：在整個光刻車間部署Chiller系統，以實現對環(huán)境溫度和濕度的準確控制，同時為光刻膠儲存和處理系統提供適宜的溫度條件。
效果：光刻工藝溫度控制chiller通過全面的溫度控制，提高了光刻過程的整體穩(wěn)定性和重復性，從而提高了生產效率和產品的良率。
光刻工藝溫度控制chiller通過提供準確和穩(wěn)定的溫度控制，Chiller有助于提高光刻過程的質量和效率，確保半導體制造過程中的高性能和可靠性。
